光催化氧化設(shè)備降解污染物是利用這些電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在短的時間內(nèi)發(fā)生分離,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。...
設(shè)備占地面積小、自重輕、適合于布置緊湊、場地特別條件;...
?uv光催化氧化設(shè)備光解氧化對從烴到羧酸的種類眾多物都,即使對原子物如鹵代烴、染料、含氮物、磷殺蟲劑也有很好的去掉效果。...
光催化氧化設(shè)備運行成本還行:本設(shè)備無任意機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,設(shè)備風(fēng)阻低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。...
光催化氧化設(shè)備適用于電線、電纜、漆包線、機械、電機、化工、儀表、汽車、自行車、摩托車、發(fā)動機、磁帶、塑料、家用電器等行業(yè)的有機廢氣凈化。...
?光催化氧化設(shè)備廢氣處理過程主要包括三部分吸附氣體過程、脫附氣體過程,催化燃燒過程。...
能耗低:設(shè)備啟動,僅需15~30分鐘升溫至起燃溫度,耗能僅為風(fēng)機功率,濃度較低時自動補償。...